在碳化硅微粉的生产过程中，除了要去除碳杂质外，铁也是其中去除的杂质之一，以下是去除铁杂质的5种方法：
　　一、化学除铁工艺——酸浸法
　　碳化硅微粉中的铁杂质主要以单质铁及其氧化物化铁的形式存在。因为单质铁及其三氧化铁均溶于硫酸、硝酸、盐酸等，生成可溶性铁盐通过加水洗涤可以去除。
　　传统的化学加酸除铁法，除铁率高。但除铁所产生的酸水需经过处理后方可进行排放，如处理不当易造成地下水的污染。并且经过酸洗的碳化硅微粉易产生聚集，从而不利于硅微粉的进一步处理，酸洗后的碳化硅微粉需进水洗至中性，所以洗涤也会造成大量纯水的浪费。
　　二、物理除铁工艺——磁选法
　　磁选法是利用金属及其氧化物的磁性，周围加入磁性原料对金属原子施加吸引或排斥力使其他金属原子发生-移动而脱离出碳化硅粉体的方法。根据原料的干湿分为：湿式磁选法和干式磁选法两种。
　　电磁除铁除铁效率、自动化程度高，符合工业生产的需求，同时可以避免大量的使用化学品，符合国家的节能、减排政策。但对于含铁量较高或磁性较弱的铁杂质，单纯利用除铁并不能达到工艺所要求的碳化硅纯度。
　　三、物理一化学综合法
　　由于磁选机自身除铁能力有限，对于含铁量高的碳化硅微粉只是通过物理法，得到的碳化硅微粉未必能够达到预期的目的。所以可以先利用磁选法进行初步磁选，然后通过酸浸法进行二次除铁的方法。
　　四、其他除铁工艺
　　酸浸法和电磁除铁是目前碳化硅微粉行业所普遍采用的除铁方法。但纵观其它行业却存在着其他的除铁方法、工艺，现列出一部分工艺以对碳化硅微粉除铁工艺提供理论依据。
　　1、氧化法浸出
　　氧化除铁法利用强氧化剂(次氯酸钠等)在水介质中将不溶于水的Fe氧化成溶于水的Fe2+，从而通过洗涤将铁杂质除去。
　　2、还原法浸出
　　将不溶于水的三价铁离子，还原成二价铁离子，然后通过加纯水洗涤，从而实现了铁杂质的去除。